Lit mélangé de polissage final UPW-Ultra™
Lit mélangé de polissage final de qualité plaquette à extractibles extrêmement faibles.
Milieu pour lit mélangé de polissage final destiné aux systèmes d'eau ultrapure pour semi-conducteurs et photovoltaïque. Résines cationiques et anioniques de type gel à particules uniformes mélangées selon un ratio optimisé, avec maîtrise prioritaire des extractibles propres de la résine et du temps de rinçage (rinse-down), pour le contrôle des ions et du TOC à l'état de traces en sortie des systèmes UPW.
| Qualité | XR-UPW-501 UPW-Ultra™ Final Polishing Mixed Bed |
|---|---|
| Forme ionique | Mélange H⁺/OH⁻ (lit mélangé de polissage) |
| Matrice | Styrène-divinylbenzène (DVB) |
| Structure | Gel à particules uniformes |
| Conditions de service adaptées | Polissage final de qualité plaquette / purification d'eau ultrapure · contrôle des ions à l'état de traces en sortie des systèmes UPW · installations neuves ou changements de résine sensibles au temps de rinçage (rinse-down) |
| Non recommandé (à évaluer au préalable) | Alimentation directe par des eaux brutes à TOC élevé (prétraitement et couplage UV/UF requis) · première mise en service sans prétraitement selon les procédures eau ultrapure |
| Granulométrie · Conditionnement · Durée de conservation | Déterminé par le CoA et la fiche TDS du lot ; disponible sur demande |
| Documentation | Téléchargez les fiches TDS / MSDS en haut de page ; des exemples de CoA et des rapports de vérification tiers sont disponibles sur demande sur demande |
Les paramètres de cette page sont des descriptions représentatives dans des conditions d'essai typiques et ne constituent pas un engagement de performance ; les valeurs spécifiques sont déterminées par le CoA et la fiche TDS du lot de la qualité concernée. Lorsque les limites de service ne sont pas clairement définies, nous recommandons de commencer par une évaluation des conditions de service。