Serie UPW-Ultra™
ΔTOC < 1 ppb · 18.2 MΩ·cmMezzo a letto misto di finitura terminale per acqua ultrapura di grado wafer per semiconduttori (purezza a livello PPT)
Il controllo preciso della struttura polimerica e le tecnologie di reticolazione controllata offrono una gamma completa di materiali, dalla separazione di base ai servizi più critici.
Sulla stessa linea di produzione alla fonte, XRESIN offre due livelli di materiali complementari: laPiattaforma industriale, per la separazione generale, e, per le condizioni di esercizio più severe, laSerie proprietaria XRESIN™. La tabella seguente La aiuterà a individuare rapidamente il livello più adatto; la selezione definitiva richiede comunque una validazione sulle condizioni di esercizio.
| Dimensione | Piattaforma di resine polimeriche industriali ad alta purezza | Serie per applicazioni speciali XRESIN™ |
|---|---|---|
| Posizionamento | Mezzi di uso generale standardizzati, per un'ampia scelta | Gradi ingegnerizzati per condizioni di esercizio di purezza/selettività estrema |
| Serie tipiche | Forti acidità/basicità con particelle uniformi, adsorbenti macroporosi, resine chelanti | UPW-Ultra™ · NucClean™ · LithiumX™ · MetRecov™ · BioPure™ · CatalystX™ |
| Ambito di applicazione | Addolcimento / demineralizzazione / trattamento generale dell'acqua / rimozione di sostanze organiche | Acqua ultrapura per semiconduttori, circuiti primari/secondari nucleari, estrazione del litio da saline, recupero di metalli preziosi, purificazione farmaceutica, catalisi per chimica fine |
| Parametri chiave | Capacità di scambio, uniformità delle dimensioni delle particelle, resistenza meccanica | Ulteriore restrizione sui parametri dedicati (ad es. ΔTOC, rilascio di anioni, tolleranza Mg/Li, tasso di cattura) |
| Fornitura e validazione | CoA e TDS di lotto standard | CoA dedicati, relazioni di verifica di terzi e valutazione delle condizioni di esercizio applicative (su richiesta) |
I «parametri dedicati» riportati in tabella hanno carattere orientativo e non costituiscono valori impegnativi; i valori specifici sono quelli del CoA e del TDS del lotto corrispondente al grado. In caso di dubbi sul livello applicabile, può Richieda una valutazione delle condizioni di esercizio。
Schema di scheletro a particelle uniformi, rete reticolata, distribuzione dei gruppi funzionali e struttura dei pori. I blocchi in sezione rappresentano la rete tridimensionale e i pori formati dalla reticolazione DVB all'interno della resina; i punti luminosi sul bordo rappresentano i gruppi funzionali fissati sullo scheletro.
Clicchi su un grado qualsiasi per aprire la relativa pagina di specifiche — forma ionica, struttura della matrice, condizioni di esercizio idonee e da valutare preliminarmente — e per scaricare TDS / MSDS.
La selezione non può essere completata da un semplice filtro.La scelta della resina dipende dall'analisi completa dell'acqua, dalla concentrazione degli ioni obiettivo, dalla modalità di esercizio, dalle condizioni di rigenerazione e dal compromesso tra costi di investimento e di esercizio, e richiede generalmente una validazione pilota o in colonna. Ci invii le Sue condizioni di esercizio: un ingegnere Le proporrà i gradi candidati e un piano di validazione.
Mezzi di uso generale standardizzati · 7 gradi
| Grado | Nome del prodotto | Forma ionica / gruppo funzionale | Matrice · struttura | Condizioni di esercizio tipicamente idonee | Dettagli |
|---|---|---|---|---|---|
| XR-SAC-001 | Resina cationica a forte acidità e particelle uniformiUniform Strong Acid Cation Exchange Resin | Forma H⁺, cationico a forte acidità (gruppo solfonico –SO₃⁻) | Stirene-divinilbenzene · gel a particelle uniformi | Addolcimento / demineralizzazione / trattamento di finitura dell'acqua di condensazione / strato di resina cationica in letti a rigenerazione in equicorrente o controcorrente | Visualizzi |
| XR-SBA-002 | Resina anionica a forte basicità e particelle uniformi (Tipo I)Uniform Strong Base Anion Exchange Resin, Type I | Forma OH⁻, anionico a forte basicità (gruppo ammonico quaternario di Tipo I) | Stirene-divinilbenzene · gel a particelle uniformi | Demineralizzazione finale / rimozione della silice / componente anionica dei letti misti di finitura | Visualizzi |
| XR-WAC-003 | Resina cationica a debole acidità (acrilica)Weak Acid Cation Exchange Resin, Acrylic | Forma H⁺, cationico a debole acidità (gruppo carbossilico –COOH) | Base acrilica · macroporoso / gel (in base al grado) | Rimozione dell'alcalinità / addolcimento con dealkalizzazione / letto stratificato con resina cationica a forte acidità | Visualizzi |
| XR-WBA-004 | Resina anionica a debole basicitàWeak Base Anion Exchange Resin | Anionico a debole basicità con ammina libera | Stirene-divinilbenzene · macroporoso | Protezione dalle sostanze organiche / rimozione di acidi / letto di guardia / pretrattamento anionico per acque ad alto carico organico | Visualizzi |
| XR-CHL-101 | Resina chelante (IDA, acido imminodiacetico)Chelating Resin, Iminodiacetic Acid | Chelazione con acido imminodiacetico (IDA) | Stirene-divinilbenzene · macroporoso | Cattura selettiva di metalli di transizione/pesanti / raffinazione di acque salate e salamoie | Visualizzi |
| XR-CHL-102 | Resina chelante (acido aminometilfosfonico)Chelating Resin, Aminomethylphosphonic Acid | Chelazione con acido aminometilfosfonico | Stirene-divinilbenzene · macroporoso | Cattura di metalli pesanti in sistemi a forte acidità ed elevata salinità / purificazione di liquami per idrometallurgia | Visualizzi |
| XR-ADS-201 | Resina adsorbente macroporosaMacroporous Polymeric Adsorbent | Adsorbimento macroporoso apolare (senza gruppi funzionali) | Stirene-divinilbenzene · macroporoso | Rimozione di sostanze organiche / decolorazione / recupero di materiali / separazione di sostanze organiche in sistemi ad elevata salinità | Visualizzi |
Gradi ingegnerizzati per le condizioni di esercizio più severe · 5 gradi
| Grado | Nome del prodotto | Forma ionica / gruppo funzionale | Matrice · struttura | Condizioni di esercizio tipicamente idonee | Dettagli |
|---|---|---|---|---|---|
| XR-UPW-501 | Letto misto di polish finale UPW-Ultra™UPW-Ultra™ Final Polishing Mixed Bed | Misto H⁺/OH⁻ (letto misto di polish) | Stirene-divinilbenzene · gel a particelle uniformi | Finitura terminale di grado wafer / trattamento di finitura dell'acqua ultrapura / controllo di ioni in tracce all'estremità del sistema UPW | Visualizzi |
| XR-NUC-601 | Resina di grado nucleare NucClean™NucClean™ Nuclear Grade Resin | H⁺/OH⁻ (grado nucleare) | Stirene-divinilbenzene · gel | Circuito primario/secondario / trattamento di finitura dell'acqua di condensazione / letti misti e letti cationici/anionici di grado nucleare | Visualizzi |
| XR-DLE-701 | Adsorbente per l'estrazione del litio LithiumX™ DLELithiumX™ Direct Lithium Extraction Media | Adsorbimento selettivo del litio (inorganico / ibrido) | Inorganico / ibrido · macroporoso / granulare | Estrazione del litio da salamoie ad alto rapporto Mg/Li / fluidi geotermici / mezzi per la fase di adsorbimento nei processi DLE | Visualizzi |
| XR-MET-801 | Mezzo di cattura dei metalli preziosi MetRecov™MetRecov™ Precious Metal Recovery Media | Chelazione selettiva di metalli preziosi / pesanti | Base acrilica · macroporoso | Recupero di metalli preziosi in sistemi a forte acidità ed elevata salinità / arricchimento di metalli preziosi da liquami residui e acque di lavaggio della raffinazione | Visualizzi |
| XR-BIO-901 | Mezzi di separazione BioPure™BioPure™ Separation Media | Adsorbimento apolare / debolmente polare | Stirene-divinilbenzene · macroporoso | Decolorazione / estrazione / purificazione di brodi per applicazioni farmaceutiche / rimozione di impurezze e arricchimento di estratti vegetali | Visualizzi |
I parametri riportati in tabella sono descrittivi e rappresentativi di condizioni di prova tipiche; distribuzione delle dimensioni delle particelle, formati di confezionamento e durata di conservazione sono quelli del CoA e del TDS del lotto. Per campioni di CoA, specifiche complete o relazioni di verifica di terzi, può Richieda i dati di validazione。
Parametri rappresentativi delle sei serie proprietarie in termini di capacità di scambio, selettività, resistenza meccanica e resistenza alla temperatura. I valori indicati sono intervalli obiettivo, non valori impegnativi; i dati specifici sono quelli del CoA e del TDS del lotto.
Mezzo a letto misto di finitura terminale per acqua ultrapura di grado wafer per semiconduttori (purezza a livello PPT)
Resina dedicata a rilascio anionico bassissimo per circuiti primari/secondari nucleari
Mezzo adsorbente speciale per l'estrazione diretta del litio (DLE) da saline e salamoie geotermali
Mezzo per la cattura mirata di metalli preziosi (oro / platino / palladio) e pesanti in sistemi a forte acidità/basicità
Mezzo altamente selettivo per decolorazione e separazione per applicazioni farmaceutiche / estratti vegetali / brodi di fermentazione
Resina catalitica eterogenea per esterificazione/eterificazione/idratazione nella chimica fine, in sostituzione dei processi con acidi liquidi
La piattaforma 01 offre mezzi industriali standardizzati e selezionabili in un ampio ambito; la piattaforma 02 restringe ulteriormente, sulla stessa linea di produzione alla fonte, i parametri di sostanze rilasciate, selettività e tolleranza.
Produzione alla fonteIn qualità di produttore alla fonte, XRESIN controlla l'intero processo, dalla polimerizzazione dei monomeri alla progettazione micro della porosità.
Marchio tecnologico proprietarioSopra la piattaforma generale, restrizioni dedicate per le condizioni di esercizio più severe: acqua ultrapura, nucleare, estrazione del litio, metalli preziosi, farmaceutica e chimica fine.
Si aggiungono le serie BioPure™ (purificazione farmaceutica / brodi di fermentazione), CatalystX™ (catalisi acida solida per chimica fine) e altre
Veda tutte le 6 serie proprietarie