UPW-Ultra™ シリーズ
ΔTOC < 1 ppb · 18.2 MΩ·cm半導体ウェハグレード超純水の最終ポリッシング混床媒体(ppt レベルの超高純度)
高分子構造の精密制御と制御された架橋技術に基づき、基礎的な分離から最も苛酷な使用条件までをカバーする完全な材料ラインナップを提供します。
同一の原料製造ラインのもと、XRESIN は二層の補完的な材料を提供しております:標準化された産業グレードプラットフォームは汎用の分離をカバーし、極めて厳しい運転条件に向けたXRESIN™ 専用シリーズ。下表をご参照いただくことで適切な層を迅速に判断できます。最終的な選定には、運転条件の検証が仍って必要です。
| 比較項目 | 工業用高純度高分子樹脂プラットフォーム | XRESIN™ 専用特殊アプリケーションシリーズ |
|---|---|---|
| 位置づけ | 標準化された、幅広い選択が可能な汎用媒体 | 極限の純度・選択性が求められる運転条件に向けた設計グレード |
| 代表的なシリーズ | 均一粒径の強酸性・強塩基性、マクロポーラス吸着剤、キレート樹脂 | UPW-Ultra™ · NucClean™ · LithiumX™ · MetRecov™ · BioPure™ · CatalystX™ |
| 適用範囲 | 軟化 / 除塩 / 一般水処理 / 有機物除去 | 半導体超純水、原子力発電の一次・二次系、塩湖からのリチウム抽出、貴金属回収、医薬の精製、ファインケミカル触媒 |
| 主要指標 | 交換容量、粒径均一性、機械的強度 | 専用指標をさらに厳格化(例:ΔTOC、陰イオン放出、Mg/Li 耐性、捕集率) |
| 供給と検証 | 標準的なバッチ CoA および TDS | 専用 CoA、第三者検証報告書、アプリケーション運転条件評価(ご要望に応じて) |
表中の「専用指標」は代表的な方向性を示すもので、保証値ではありません。具体的な数値は、該当グレードのバッチ CoA および TDS に準じます。適用層の判断に迷われた場合は、 使用条件評価のご請求。
均一粒径の骨格・架橋ネットワーク・官能基分布と孔構造の概要。断面の色ブロックは DVB 架橋により形成された樹脂内部の三次元ネットワークと孔道を表し、縁の明るい点は骨格に固定された官能基を表しております。
いずれかのグレードをクリックすると、専用の仕様ページが開きます。イオン型、マトリックス構造、適用条件および事前評価が必要な条件を確認し、TDS / MSDS をダウンロードいただけます。
選定はフィルターのみでは完了しません。樹脂の選定は、水質の全分析、目標イオン濃度、運転方式、再生条件、投資・運転コストのトレードオフに依存し、通常はパイロット試験またはカラム試験による検証が必要です。運転条件をお送りいただければ、エンジニアが候補グレードと検証案をご提示いたします。
標準化された汎用媒体 · 7 グレード
| グレード | 製品名 | イオン型/官能基 | マトリックス・構造 | 標準的な適用使用条件 | 詳細 |
|---|---|---|---|---|---|
| XR-SAC-001 | 強酸性陽イオン均一粒径樹脂Uniform Strong Acid Cation Exchange Resin | H⁺型強酸性陽イオン(スルホン酸基 –SO₃⁻) | スチレン-ジビニルベンゼン・均一粒径ゲル | 軟化 / 除塩 / 復水精処理 / 同流または逆流再生床の陽樹脂層 | 見る |
| XR-SBA-002 | 強塩基性陰イオン均一粒径樹脂(I型)Uniform Strong Base Anion Exchange Resin, Type I | OH⁻型強塩基性陰イオン(I型第四アンモニウム基) | スチレン-ジビニルベンゼン・均一粒径ゲル | 最終除塩 / 脱珪 / 精処理混床の陰樹脂成分 | 見る |
| XR-WAC-003 | 弱酸性陽イオン樹脂(アクリル系)Weak Acid Cation Exchange Resin, Acrylic | H⁺型弱酸性陽イオン(カルボキシ基 –COOH) | アクリル系 · マクロポーラス / ゲル(グレードによる) | アルカリ度除去 / 除アルカリ軟化 / 強酸性陽樹脂との多層床構成 | 見る |
| XR-WBA-004 | 弱塩基性陰イオン樹脂Weak Base Anion Exchange Resin | フリーアミン型弱塩基性陰イオン | スチレン-ジビニルベンゼン・マクロポーラス | 有機物保護 / 除酸 / 前置床 / 高有機物水源の陰床前置 | 見る |
| XR-CHL-101 | キレート樹脂(IDA・イミノ二酢酸)Chelating Resin, Iminodiacetic Acid | イミノ二酢酸(IDA)キレート | スチレン-ジビニルベンゼン・マクロポーラス | 遷移金属・重金属の選択的捕集 / 塩水・ブラインの精製 | 見る |
| XR-CHL-102 | キレート樹脂(アミノメチルホスホン酸)Chelating Resin, Aminomethylphosphonic Acid | アミノメチルホスホン酸キレート | スチレン-ジビニルベンゼン・マクロポーラス | 強酸性・高塩系での重金属捕集 / 湿式冶金原料液の浄化 | 見る |
| XR-ADS-201 | マクロポーラス吸着樹脂Macroporous Polymeric Adsorbent | 非極性マクロポーラス吸着(官能基なし) | スチレン-ジビニルベンゼン・マクロポーラス | 有機物除去 / 脱色 / 物料回収 / 高塩系における有機物分離 | 見る |
極めて厳しい運転条件に向けた設計グレード · 5 グレード
| グレード | 製品名 | イオン型/官能基 | マトリックス・構造 | 標準的な適用使用条件 | 詳細 |
|---|---|---|---|---|---|
| XR-UPW-501 | UPW-Ultra™ 最終ポリッシング混床UPW-Ultra™ Final Polishing Mixed Bed | H⁺/OH⁻混合(ポリッシング混床) | スチレン-ジビニルベンゼン・均一粒径ゲル | ウェハグレードの最終ポリッシング / 超純水精処理 / UPW システム末端での痕量イオン制御 | 見る |
| XR-NUC-601 | NucClean™ 核グレード樹脂NucClean™ Nuclear Grade Resin | H⁺/OH⁻(核グレード) | スチレン・ジビニルベンゼン · ゲル | 一次系 / 二次系 / 復水精処理 / 核グレードの混床・陽床・陰床 | 見る |
| XR-DLE-701 | LithiumX™ DLEリチウム吸着剤LithiumX™ Direct Lithium Extraction Media | リチウム選択吸着(無機/ハイブリッド) | 無機 / ハイブリッド · マクロポーラス / 粒状 | 高 Mg/Li 比ブライン・地熱流体からのリチウム抽出 / DLE プロセスの吸着段媒体 | 見る |
| XR-MET-801 | MetRecov™ 貴金属捕集メディアMetRecov™ Precious Metal Recovery Media | 貴金属/重金属選択キレート | アクリル系 · マクロポーラス | 強酸性・高塩系での貴金属回収 / 精製尾液・洗水からの貴金属濃縮 | 見る |
| XR-BIO-901 | BioPure™ 分離メディアBioPure™ Separation Media | 非極性/弱極性吸着 | スチレン-ジビニルベンゼン・マクロポーラス | 医薬の脱色 / 抽出 / 発酵液精製 / 植物抽出物の除雑と濃縮 | 見る |
表中のパラメータは標準的な試験条件における代表的な記述です。粒径分布、包装仕様、保存期間はバッチ CoA および TDS に準じます。CoA のサンプル、完全な仕様、第三者検証報告書をご希望の場合は、 検証資料のご請求。
6 つの専用シリーズにおける交換容量、選択性、機械的強度、耐温性の代表的な方向性。図中の数値は目標値の範囲であり、保証値ではありません。詳細はバッチ CoA および TDS に準じます。
半導体ウェハグレード超純水の最終ポリッシング混床媒体(ppt レベルの超高純度)
原子力発電の一次・二次系向け極低陰イオン放出専用樹脂
塩湖・地熱ブラインからの直接リチウム抽出(DLE)向け特殊吸着媒体
強酸性・強塩基性系における貴金属(金・白金・パラジウム)および重金属の定向的捕集媒体
医薬・植物抽出・発酵液向けの高選択性脱色・分離媒体
ファインケミカルのエステル化・エーテル化・水和反応向けの不均一系触媒樹脂。液体酸プロセスを代替します
プラットフォーム 01 は標準化され幅広く選定可能な産業グレード媒体を提供し、プラットフォーム 02 は同一の原料製造ラインにおいて、溶出物、選択性、耐性の指標をさらに厳格化しております。
原料製造原料メーカーとして、XRESIN はモノマーの重合から微細な孔径設計まで、全工程を管理する能力を有しております。
専用技術ブランド汎用プラットフォームの上に、超純水、原子力発電、リチウム抽出、貴金属、医薬、ファインケミカルといった極めて厳しい運転条件に向けて、専用の厳格化を施しております。
ほかにも BioPure™(医薬・発酵液の精製)、CatalystX™(ファインケミカルの固体酸触媒)などのシリーズがございます
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