Letto misto di polish finale UPW-Ultra™
Letto misto di polish finale di livello wafer, con rilascio estremamente basso.
Mezzo a letto misto di finitura terminale per sistemi di acqua ultrapura per semiconduttori e fotovoltaico. Resine cationiche/anioniche gel a particelle uniformi miscelate in rapporto ottimizzato, con particolare attenzione al controllo delle sostanze rilasciate dalla resina e del tempo di rinse-down — per il controllo di ioni in tracce e TOC all'estremità del sistema UPW.
| Grado | XR-UPW-501 UPW-Ultra™ Final Polishing Mixed Bed |
|---|---|
| Forma ionica | Misto H⁺/OH⁻ (letto misto di polish) |
| Matrice | Stirene-divinilbenzene (DVB) |
| Struttura | Gel a particelle uniformi |
| Condizioni di esercizio idonee | Finitura terminale di grado wafer / trattamento di finitura dell'acqua ultrapura · controllo di ioni in tracce all'estremità del sistema UPW · nuove installazioni e sostituzioni sensibili al tempo di rinse-down |
| Non raccomandato (valutare prima) | Alimentazione diretta di acque grezze ad alto TOC (pretrattamento con UV/UF richiesto) · prima messa in esercizio senza pretrattamento secondo le procedure per acqua ultrapura |
| Dimensione delle particelle · Confezione · Durata di conservazione | Fatte salve le indicazioni del CoA e del TDS di lotto; disponibili su richiesta |
| Documenti | TDS / MSDS sono scaricabili dall'inizio della pagina; esempi di CoA e rapporti di verifica di terze parti sono disponibili su richiesta |
I parametri riportati in questa pagina sono descrizioni rappresentative in condizioni di prova tipiche e non costituiscono un impegno prestazionale; i valori specifici sono regolati dal CoA e dal TDS del lotto corrispondente al grado. Laddove i limiti di esercizio non siano chiari, si consiglia di iniziare con una valutazione delle condizioni di esercizio。