XR-UPW-501
Grau B · Série Especializada
Proprietary Application Media
Leito Misto de Polimento Terminal UPW-Ultra™
Leito misto de polimento terminal de grau wafer, com lixiviados extremamente baixos.
Meio de leito misto de polimento terminal para sistemas de água ultrapura (UPW) de semicondutores e fotovoltaica. Resinas catiónicas/aniónicas de gel de partículas uniformes misturadas em proporção otimizada, com foco no controlo dos lixiviados da própria resina e do tempo de rinse-down — para controlo de iões traço e TOC na saída do sistema UPW.
| Grau | XR-UPW-501 UPW-Ultra™ Final Polishing Mixed Bed |
|---|---|
| Forma Iónica | Mistura H⁺/OH⁻ (leito misto de polimento) |
| Matriz | Estireno-Divinilbenzeno (DVB) |
| Estrutura | Gel de Partículas Uniformes |
| Condições de Serviço Adequadas | Polimento terminal de grau wafer / purificação de água ultrapura · controlo de iões traço na saída do sistema UPW · novas instalações/substituições sensíveis ao tempo de rinse-down |
| Não Recomendado (avaliar primeiro) | Alimentação direta de água bruta com elevado TOC (pré-tratar com UV/UF) · primeira colocação em serviço sem pré-tratamento conforme procedimentos de água ultrapura |
| Tamanho de Partícula · Embalagem · Prazo de Validade | Regido pelo CoA e TDS do lote; disponível a pedido |
| Documentos | Descarregue o TDS / MSDS no início da página; amostras de CoA e relatórios de verificação por terceiros estão disponíveis a pedido |
Os parâmetros desta página são descrições representativas em condições de ensaio típicas e não constituem um compromisso de desempenho; os valores específicos são regidos pelo CoA e TDS do lote do grau correspondente. Quando os limites de serviço não são claros, recomendamos começar por uma avaliação de serviço。