XR-UPW-501
Bグレード・専用シリーズ
Proprietary Application Media
UPW-Ultra™ 最終ポリッシング混床
ウェハーグレードの最終ポリッシング混床で、溶出物が極めて少ない製品です。
半導体および太陽光発電の超純水システム向けの最終ポリッシング混床媒体。均一粒径のゲル型陰・陽樹脂を最適な比率で混合し、樹脂自体からの溶出物とリンスダウン時間の制御を重点としております。UPW システム末端での痕量イオンおよび TOC の制御に使用いたします。
| グレード | XR-UPW-501 UPW-Ultra™ Final Polishing Mixed Bed |
|---|---|
| イオン型 | H⁺/OH⁻混合（ポリッシング混床） |
| マトリックス | スチレン－ジビニルベンゼン（DVB） |
| 構造 | 均一粒径ゲル |
| 適用できる使用条件 | ウェハグレードの最終ポリッシング / 超純水精処理 · UPW システム末端での痕量イオン制御 · リンスダウン時間の影響を受けやすい新設・交換時 |
| 非推奨（事前評価が必要） | 高 TOC 原水の直接投入（前処理および UV/UF の併用が必要） · 超純水の手順に沿った前処理を行わない初期運転 |
| 粒径・包装・保存期間 | バッチごとのCoAおよびTDSに準拠します。ご要望に応じて提供いたします。 |
| 資料 | TDS／MSDSはページ上部からダウンロードいただけます。CoAサンプルおよび第三者検証報告書はご要望に応じて提供いたします。 ご要望に応じて提供 |
本ページの数値は標準的な試験条件における代表的な記載であり、性能の保証ではありません。具体的な数値は、該当グレードのバッチCoAおよびTDSに準拠します。使用条件の境界が不明確な場合は、まず 使用条件評価をお勧めします。。